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会议简介 Brief Introduction01

我们欣然邀请研究人员、学者及行业专业人士参加第十九届机器视觉国际会议 (ICMV 2026)。该会议将于2026年10月15日至18日在充满活力的匈牙利布达佩斯举行。自2007年于伊斯兰堡创办以来,ICMV 已发展成为探索机器视觉最新进展及其变革性应用的顶级平台。

本届会议由斯图加特大学、巴塞罗那大学、俄罗斯科学院联邦研究中心“计算机科学与控制”等知名机构主办,并得到阿伯里斯特威斯大学、斯科尔科沃科技学院、国立圣埃蒂安高等矿业学校、电子科技大学、斯法克斯大学等全球知名组织的支持,将呈现一场丰富的跨学科盛会。在延续此前于巴黎(2025年)、爱丁堡(2024年)、罗马(2022年)、阿姆斯特丹(2019年)等知名城市成功举办的基础上,今年的会议将深入探讨推动机器视觉创新的最新研究、理论和应用。

ICMV 2026 将聚焦机器视觉作为数字化转型核心驱动力的作用,探讨以下主题:
图像处理与计算机视觉领域的理论进展及新算法
在工业自动化、质量检测、医疗诊断、机器人等领域的应用
由移动及无线设备赋能的集成技术

会议将重点关注前沿研究与实践应用,为顶尖学者提供合作、交流思想并推动这一动态领域发展的平台。

我们诚邀提交关于机器视觉各个方面的优质原创研究论文,涵盖理论、原理、算法、实践及应用。入选论文将通过口头报告、海报展示及特邀报告等形式进行呈现,营造互动且富有参与感的学术氛围。

加入我们在“灯光与创新之城”布达佩斯,与全球专家交流互动,共同塑造机器视觉的未来!

重要信息 Highlights02

会议出版
ICMV 2026 录用并完成报告的论文可由 SPIE 出版,收录于 SPIE 数字图书馆,并提交至 Web of Science 会议论文引文索引-科学版、Scopus、Ei Compendex 等数据库,以确保论文集获得最大程度的曝光与关注。

征稿主题 Call for Paper03

图像形成(图像获取、光学基础、光度基础、视觉模型、色彩空间、传感器)
图像建模(图像表示、系统和信号、二维、三维模型、投影、渲染、模态、参数)
图像处理(图像预处理、图像增强、图像过滤、图像分析、图像复原、多分辨率分析、图像对齐和拼接、几何变换)
图像分类(特征空间、特征提取、蚀刻和轮廓、分割、纹理分析、形态学、模式识别、计算机视觉、机器视觉)
图像重构(深度估计和重构、单眼深度估计、立体视觉、多视图立体、从阴影看形状、三维重建、体积表示)
机器学习、深度学习和神经网络(监督学习、非监督学习、深度神经网络、卷积神经网络)

主讲嘉宾 Keynote speaker 04

  • Prof. Arie den Boef · 阿姆斯特丹自由大学与ASML公司

    是ASML公司的高级研究员,从事光学晶圆计量技术研究。他于1997年加入ASML,自2016年起担任阿姆斯特丹自由大学兼职全职教授,并兼任阿姆斯特丹纳米光刻先进研究中心"计算成像"研究组兼职组长。1995年至1997年,他在飞利浦光存储公司担任光学记录系统系统工程师;1992年至1995年,在飞利浦医疗系统公司从事磁共振成像研究;1979年至1992年,在飞利浦研究实验室从事激光二极管表征及工业检测光学测量系统研究。 Prof. Arie den Boef 于1985年在埃因霍温理工学院获得电气工程学士学位,1991年在荷兰特温特大学物理系获得博士学位,博士论文题目为《使用光学干涉法的扫描力显微镜》。

  • Prof. Vittorio Murino · 意大利技术研究院

    Prof. Vittorio Murino 是意大利维罗纳大学全职教授,并任意大利技术研究院模式分析与计算机视觉系主任。他于1989年在意大利热那亚大学获得电子工程学士学位,1993年在该校获得电子工程与计算机科学博士学位。他曾于2001年(该系成立之年)至2007年担任计算机科学系主任,并于1999年至2003年担任同校计算机科学博士项目协调员。Prof. Vittorio Murino 是多个国家级及欧洲项目的科学负责人,并担任多个欧盟框架计划项目提案的评审专家。目前,他在意大利热那亚的意大利技术研究院工作,领导致力于计算机视觉、机器学习和图像分析活动的模式分析与计算机视觉系。 他的主要研究兴趣包括计算机视觉、模式识别和机器学习,更具体地说,是用于图像和视频处理的统计与概率技术,及其在(人类)行为分析及相关应用(如视频监控、生物医学成像和生物信息学)中的应用。Prof. Vittorio Murino 是超过300篇同行评审期刊及国际会议论文的合著者,担任CVPR、ICCV、ECCV、ICPR、ICIP等重要会议的技术委员会委员,并担任多本重要科学期刊的特刊客座联合编辑。他也是《Pattern Recognition》、《Pattern Analysis and Applications》、《Machine Vision & Applications》、《Computer Vision and Image Understanding》以及《IEEE Transactions on Cybernetics》期刊的编委会成员。最后,Prof. Vittorio Murino 是IEEE高级会员及国际模式识别协会会士。

  • Prof. Eberhard Manske · 德国伊尔梅瑙工业大学

    Prof. Eberhard Manske 于1982年在伊尔梅瑙工业大学获得电气工程学位,1986年获博士学位,2006年在精密计量学领域完成教授资格论文。自2008年起,他担任伊尔梅瑙工业大学“生产与精密计量学”教授。 2008年至2013年,他担任德国研究基金会资助的合作研究中心“纳米定位与纳米测量机”的发言人;2017年至2020年,他领导了研究培训小组“宏观工作区域内的先进激光三维纳米制造”。 他的研究活动聚焦于纳米定位与纳米测量机的开发,特别是在高精度激光干涉测量、激光稳频、频率梳技术、光学与触觉纳米传感器以及扫描探针方法等领域。他与SIOS Meßtechnik GmbH的Denis Dontsov博士共同创立了“世界干涉测量日”(始于1921年),该纪念日于每年4月初举行,以纪念阿尔伯特·迈克耳孙于1881年成功进行的首次干涉仪实验。

会议投稿 Conference submission 06

投稿指南

投稿方式
接受全文和摘要投稿。
只有全文稿件将被录用并发表于会议论文集中;
被录用的全文和摘要均将受邀进行口头报告或海报展示。

请将您的稿件提交至电子投稿系统(仅接受 .pdf 格式):http://www.easychair.org/conferences/?conf=icmv2026
如有任何疑问,请发送邮件至 [email protected]

模板下载:https://icmv.org/sub.html
请按照模板格式编排您的论文。

审稿流程
所有提交的论文将送交审稿人进行盲审。审稿人将依据以下标准评估研究论文:

新颖性贡献
思想的原创性
推论与论证
主要优势
主要不足
可改进之处
研究的呈现与组织

提交的论文将由委员会审稿人进行评审。如果论文主题相关且数据质量符合安排要求,将被安排在会议期间进行口头报告或海报展示。不相关或质量较差的摘要可能会被拒稿。通过评审并被录用的论文将在通知日通过电子邮件收到通知信息,并需在注册截止日期前完成注册。

抄袭处理
如果作者被发现存在抄袭行为,将采取以下制裁措施:

拒收已投稿件,或从最终出版物中删除该文章。
向作者的导师及其所在机构报告其违规行为。
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