第20届计算机辅助设计与计算机图形学国际会议

CAD/Graphics 创办于 1989 年，是 CCF 推荐的 C 类学术会议，并已进入 CCF 高质量国际学术会议培育计划。会议是计算机辅助设计、计算机图形学与可视化领域具有重要影响力的国际学术交流平台，本届预计吸引 200–250 位来自全球的高校研究人员、青年学者、开发者及产业界代表参会，尤其以韩国、日本及亚太地区参与者为主。

1. 检索信息

• 会议论文：收录于 Springer LNCS 会议论文集，EI 检索。

• 期刊论文：推荐至 IEEE Transactions on Visualization and Computer Graphics（SCI，CCF A）、Computers & Graphics（SCI，CCF C）、Visual Informatics（CCF C）、CSIAM Transactions on Applied Mathematics（SCI）等期刊发表。

2. 出版信息

• 录用论文按评审结果分流：期刊论文（Journal Papers）直接发表于上述 SCI/CCF 期刊；会议论文（Conference Papers）收录于 Springer LNCS 系列。

• 投稿时须按 《Computers & Graphics》期刊格式排版，不超过 12 页（含图表和参考文献）；接受 LaTeX 或 MS Word 排版，全文仅接受 PDF 格式。

3. 组委会信息（部分核心成员）

• 荣誉主席（Honorary Conference Chairs） ：Joaquim Jorge（里斯本大学，葡萄牙）、Shigeo Morishima（早稻田大学，日本）；首尔当地荣誉主席为 Myung-Soo Kim（首尔大学，韩国）。

• 大会主席（Conference Chairs） ：Jehee Lee（首尔大学，韩国）、Kun Zhou（浙江大学，中国）；早期征稿通知中列出的会议主席还包括 Takayuki Itoh（御茶水女子大学，日本）、Hui Huang（深圳大学，中国）、Min H. Kim（KAIST，韩国）。

• 程序主席（Program Chairs） ：Yonghao Yue（青山学院大学，日本）、Chongke Bi（天津大学，中国）、Or Patashnik（特拉维夫大学，以色列）。

• 指导委员会（Steering Committee） ：Shi-Min Hu（清华大学）、Hujun Bao（浙江大学）、Baoquan Chen（北京大学）、Joaquim Jorge（里斯本大学）、Taku Komura（香港大学）、Shixia Liu（清华大学）、Hao (Richard) Zhang（西蒙弗雷泽大学）等。

CAD/Graphics 2026 的征稿范围涵盖（但不限于）以下方向：

1. 3D Printing and Computational Fabrication（3D 打印与计算制造）

2. Bio-CAD and Nano-CAD（生物 CAD 与纳米 CAD）

3. Computer Animation（计算机动画）

4. Computer Graphics Systems and Hardware（图形系统与硬件）

5. Deep Learning for Graphics（面向图形的深度学习）

6. Geometry Processing（几何处理）

7. Image and Video Processing（图像与视频处理）

8. Integration of CAD/CAE/CAM（CAD/CAE/CAM 集成）

9. Rendering and Inverse Rendering（渲染与逆渲染）

10. Virtual Reality and Augmented Reality（虚拟现实与增强现实）

11. Visualization（可视化）

• 投稿系统：Microsoft CMT（https://cmt3.research.microsoft.com/CADGraphics2026/）。

• 评审方式：双盲评审（double-blind） ，投稿中须删除所有作者与机构信息。

• 格式与页数：按《Computers & Graphics》期刊格式排版，不超过 12 页（含图表和参考文献）；推荐使用 LaTeX 模板，Word 排版同样接受；仅接受 PDF。

• 语言：仅接受英文完整论文，不接受中文投稿。

• 预印本政策：允许在投稿前/后将论文存档于机构技术报告或 arXiv（与 SIGGRAPH 2026 政策一致）。